在集成电路设计的宏大叙事中，PDK (Process Design Kit, 工艺设计套件)并非仅仅是一组文件的集合，它是晶圆代工厂（Foundry，如 TSMC、Samsung、Intel Foundry）与设计公司（Design House）之间最核心的契约。它封装了极其复杂的半导体物理特性，将其抽象为 EDA 工具可识别的数学模型与规则集。从功能定义上看，PDK 是由 Foundry 提供的

导向滤波之图像融合（C++版） Image Fusion with Guided Filtering本次代码效果图。关于这篇IEEE上高被引的论文的算法还原工作如下：首先关于这篇论文的思路分析，就是通过各种滤波之间的组合，筛选出两张图中各自细节丰富的那一部分，从而经行不同权值的融合，实现双重曝光的融合。如下图所示分为ABC三个步骤。下面按照步骤经行详细操作：首先A步：一、对原图I1和I2进行均值滤