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本篇是个人学习知识笔记,可能会持续更新,如有任何问题欢迎大家批评指正(ltt@hkaco.com)(图源请参考图片水印)。一、芯片的生产流程二、芯片生产过程中涉及到的测试设备三、后道检测中的CP测试和FT测试1、CP测试:CP测试,英文全称Circuit Probing、Chip Probing,也称为晶圆测试,测试对象是针对整片wafer中的每一个Die,目的是确保整片wafer中的每一个Die
摘要:Trim技术是半导体后道测试中校准芯片参数的核心工艺,通过物理或电学方式调整内部元件网络,将参数精度提升至±0.1%。主要方法包括激光修调、熔丝技术等物理Trim,以及EEPROM、OTP等可编程Trim。在量产中,智能算法可优化测试效率,而TDDI等复杂芯片需多参数协同校准。随着3D堆叠和先进工艺发展,Trim技术面临纳米级精度和跨die协同等新挑战,持续推动半导体性能边界扩展。(149字

如图,DNL(差分非线性)误差指的是任意一个输出台阶的宽度与1 LSB理想台阶宽度之间的偏差;INL(积分非线性)误差指的是实际输出相较于全量程传输函数的最大偏差,实际全量程的传输函数需要补偿ADC本身的Gain Error和offset。

光电二极管(Photo-Diode)是由一个PN结组成的半导体器件,具有单方向导电特性。光电二极管是在反向电压作用之下工作的,在一般照度的光线照射下,所产生的电流叫光电流。如果在外电路上接上负载,负载上就获得了电信号,而且这个电信号随着光的变化而相应变化。输出电压=输入光信号 ×响应度×50Ω负载结光电二极管是一种基本器件,功能类似于普通的信号二极管,但在结半导体的耗尽区吸收光时,会产生...
大模型,指的是具有大规模参数和复杂结构的机器学习模型,通常具有更强的表达能力和更好的性能,能够处理更复杂的任务和更大规模的数据。RAG技术的出现极大地提升了内容的准确性和相关性,有效地缓解了幻觉问题,提高了知识更新的速度,并增强了内容生成的可追溯性,使得大型语言模型在实际应用中变得更加实用和可信。而RAG技术通过结合检索和生成,使得模型在生成文本时能够参考并利用外部知识库中的相关信息,从而限制模型

满标度增益误差是理想ADC和实际设备在满标度输出时的输出误差的度量。实际ADC的V[0]是第一次代码转换的输入电压减去0.5LSB。偏移误差是根据代码零处的输入电压计算的。FSnom是理想ADC的满量程输入电压。

DFT-- design for test三要素:辅助性设计, physical defects结构性测试向量是一种辅助性设计,利用这种辅助性设计 对根据 physical defects 建立的 fault model 进行求解产生的结构性测试向量,这些结构性测试向量用于检测制造出来芯片的能否正常工作。scan chain 包含两个步骤: scan replacementscan stitchi
这带来了窄边框、低成本、高集成度的优点。它像一个内置在玻璃上的精密开关控制器,按特定节奏一行接一行地开启屏幕的像素行。中,是制造窄边框、高性价比显示器的核心技术之一。
半导体产品的质量取决于其是否可以充分满足指定的标准及特性;而半导体产品的可靠性,是指在一定时间内无故障运行,从而提高客户满意度和复购率的能力。以此为前提,失效是指在产品使用过程中发生的故障,而缺陷是指在产品制造或检验过程中发生的错误。因此,产品缺陷属于质量问题,而产品在保修期内频繁出现故障则属于可靠性问题。▲ 图1:质量与可靠性的区别(ⓒ HANOL出版社)图1列举了质量及可靠性在含义和特性方面的








